高純度薬液、ガス中の微量不純物分析
成膜プロセスで使用する特殊ガスなどの各種プロセス材料中の微量不純物を、試料に応じた捕集技術・前処理技術を組み合わせ、分析する事が可能です。また、半導体産業で使用される高純度な電子工業用薬品の粒子数や不純物も高感度に分析します。
分析項目
金属元素分析、イオン成分分析、有機物分析それぞれに対応したクリーンルームにより、高純度薬液、ガス中の微量不純物を高感度分析します。
対象材料 | 化合物例 | 用途 | 対象成分 | 分析方法 |
---|---|---|---|---|
腐食性ガス | TiCl4、WF6 | バリアメタル 洗浄 |
金属 | ICP-MS、ICP-AES |
イオン | IC | |||
無機ガス | H2、N2、Ar、He、Air | 濃度制御 反応ガス 洗浄 |
金属 | ICP-MS、ICP-AES |
イオン | IC | |||
油分 | GC-MS | |||
水分 | 露点計 | |||
粒子 | パーティクルカウンター | |||
細菌 | PCR | |||
電子工業用薬品 | 超純水 アンモニア水 過酸化水素水 フッ酸 |
洗浄 | 金属 | ICP-MS、ICP-AES |
イオン | IC | |||
粒子 | LPC | |||
有機物量 | TOC | |||
技術事例
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