1. HOME
  2. サービス
  3. マテリアルサイエンス
  4. エレクトロニクス
  5. 電子工業材料
  6. プロセス材料の評価(薬液・ガス)

プロセス材料の評価(薬液・ガス)

高純度薬液、ガス中の微量不純物分析

成膜プロセスで使用する特殊ガスなどの各種プロセス材料中の微量不純物を、試料に応じた捕集技術・前処理技術を組み合わせ、分析する事が可能です。また、半導体産業で使用される高純度な電子工業用薬品の粒子数や不純物も高感度に分析します。

分析項目

金属元素分析、イオン成分分析、有機物分析それぞれに対応したクリーンルームにより、高純度薬品中の微量不純物を高感度分析します。

対象材料 化合物例 用途 対象成分 分析方法
有機金属 Ti,Zr,Al含有化合物 バリアメタル、
配線、
コンタクトホール、
ビアホール
金属 ICP-MS、ICP-AES
ハロゲン IC
ハロゲン化金属 TiCl4,WF6 バリアメタル、
配線、
コンタクトホール、
ビアホールバリアメタルリフローライナー
金属 ICP-MS、ICP-AES
腐食性ガス TiCl4,WF6 バリアメタル、洗浄 金属 ICP-MS、ICP-AES
ハロゲン IC
無機ガス H2,N2,Ar,He,Air 濃度制御、
反応ガス、
洗浄
金属 ICP-MS、ICP-AES
ハロゲン IC
油分 GC-MS
水分 露点計
パーティクル パーティクルカウンター
細菌 PCR
電子工業用薬品 超純水 洗浄 粒子
(パーティクル)、
金属、ハロゲン、TOC
LPC、ICP-MS、IC、TOC
アンモニア水
過酸化水素水
フッ酸

技術事例

お問い合わせ

分析・測定や商品、コンサルティングなどのサービスに関するお問い合わせやご依頼は、お問い合わせフォームまたは電話・FAXにてお気軽にお問い合わせださい。

受付時間
9:00 ~ 12:00 および 13:00~17:30(土日祝、年末年始、当社休業日をのぞく)
お電話
03-5689-1219
FAX
03-5689-1222