研究開発の活性障壁を乗り越える、信頼の触媒評価技術
固体触媒は、化学工業をはじめ、エネルギーや環境など様々な分野において重要な役割を果たしています。固体触媒の研究開発には、反応場における触媒と反応物の構造を解析し、反応メカニズムを推定するプロセスが欠かせません。住化分析センターは経験に裏打ちされた知見と各種分析手法の融合による、多角的な触媒キャラクタリゼーションサービスのご提供により、固体触媒の研究開発に貢献いたします。
特徴/当社の強み
①元素分析、形態観察、表面状態分析、固体・粉体物性、熱物性、反応特性など、触媒分析に必要な技術を幅広く取り揃えています。
②様々な受託分析で培った触媒解析ノウハウを活かし、お客様の固体触媒研究に貢献いたします。
③豊富な分析キャパシティにより、お客様の製品管理にかかる膨大なルーチン分析に対してもコストコンシャスなご提案をいたします。
分析項目
構造・組成
項目 | 分析手法・装置 |
---|---|
形態観察 (ミクロ、 マクロ) |
・走査型電子顕微鏡(SEM) ・走査型透過電子顕微鏡(STEM) ・X線CT ・光学顕微鏡 |
細孔径分布、細孔容積 | ・小角X線散乱(SAXS) ・N2ガス吸着法 ・Arガス吸着法 ・モレキュラープローブ法 ・水銀圧入法 |
比表面積 | ・N2ガス吸着法 ・Arガス吸着法 ・Krガス吸着法 |
結晶構造 | ・X線回折(XRD) ・ラマン分光法 ・高分解能透過型電子顕微鏡(TEM) |
触媒組成 不純物 付着物 |
・誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES) ・誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS) ・蛍光X線分析(WXRF、EDX) ・分析電子顕微鏡(SEM-EDX、TEM-EDX) ・電子線マイクロ分析(EPMA) ・灰分、水分 ・C、H、N、O、S、P分析(NCH計、ND-IR、燃焼法) ・ハロゲン(イオンクロマトグラフ) |
金属表面積、分散度 | ・化学吸着法(CO、H2、 N2Oなど) |
金属価数 | ・X線光電子分光分析(XPS) ・X線吸収微細構造(XAFS) ・X線回折(XRD) ・電子スピン共鳴法(ESR) ※雰囲気前処理が可能です。 |
前処理 | ・所定の雰囲気・温度で触媒の前処理が可能です。 (大気非開放でXPS、TEM、SEMなどへのサンプル移送ができます。) |
ガス吸着特性、その他物性
項目 | 分析手法・装置 |
---|---|
吸着量、脱離量 | ・ガス吸着等温線 (N2、Kr、 Ar、 トルエン、メタノール、CO2、H2O等) |
吸着・拡散速度 | ・ガス吸着等温線(定容量法、重量法) |
吸着熱量 | ・ガス吸着等温線(微分吸着熱) |
表面ガス吸着サイト | ・ガス吸着FT-IR(CO、NO、CO2、低沸点有機溶媒 等) |
粉体物性 | ・粒度分布(レーザー回折法、ふるい法、画像解析法など) ・Carr.の粉体指数 (かさ密度、安息角、圧縮度、スパチュラ角、凝集度、流動性、崩潰角、差角、分散度) ・形状特性評価(画像解析法) |
比熱 | ・DSC法 ・断熱法 |
熱伝導率 | ・レーザーフラッシュ法 ・熱線法 |
触媒・反応特性
項目 | 分析手法・装置 |
---|---|
酸・塩基特性 (強度、量、酸種) |
・NH3-TPD(酸量) ・ピリジン吸着IR(B酸、L酸) ・固体NMR(Si/Al比) |
触媒反応温度 | ・昇温還元法(TPR) ・昇温酸化法(TPO) ※ガス種は応相談 |
反応生成物 | ・GC-MS |
転化率、選択率 | ・マイクロリアクター |
示差熱、熱重量、生成ガス | ・熱重量-質量分析(TG-MS) |
価数変化 | ・in situ XAFS |
結晶構造変化 | ・in situ XRD-MS |
吸着種 | ・in situ FT-IR |
この他、各種物性測定についてもご相談ください。
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