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半導体用高純度ガスの清浄度評価

製造プロセスに影響を与えるガス中の不純物を評価します。

これまでに培ってきたクリーンルーム空気の評価技術を活かし、半導体用高純度ガス（窒素、アルゴン、酸素、水素、CDA など）に含まれる極微量な成分を短時間で採取し、高感度に評価します。

特長

  • 1.
    水分、オイル、揮発性有機物、ハロゲン、金属、酸性成分、塩基性成分など多種成分を評価できます。
  • 2.
    高圧ガス及びガス供給配管の接続など現場のユーティリティ条件にあわせてサンプリング対応をいたします。
  • 3.
    サンプリング時間に制約がある場合は短時間捕集可能な固体捕集法（BremS®）で対応可能です。

分析項目

半導体用高純度ガス、圧縮エアなどの評価一覧

対象ガス 用途 対象成分 定量下限 分析方法
N2,Ar,O2,H2,CDA 濃度制御、洗浄 金属 0.002 μg/m3 ICP-MS
酸、塩基 酸 0.02μg/m3
塩基 0.03μg/m3		 IC、CE
油分 0.1μg/m3 GC-MS
硫黄化合物
（H2S,COS）		 0.01vol ppb～ GC-FPD
水分 0.1vol ppm～ 露点計
微生物 1CFU/m3 培養法

CDA: clean dry air

事例 固体サンプラーBremS®によるNH4+の短時間・高感度分析

BremS®は捕集量全量を測定装置に導入できることから捕集液の一部を測定に使用するインピンジャー法に対して高感度な方法です。BremS®はインピンジャー法で24時間採取のときの定量下限が1時間採取で達成できます。

BremS®・インピンジャー法の定量下限比較（NH4）

技術事例

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