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2001-Ⅱ号(Vol.14)

概要

発行日
2001年07月26日
特集
表面
  • 所属名は発行当時のものです。
  • SCAS NEWS に掲載されている情報は発行当時のものです。記載されているサービスは、既に取り扱っていない場合もございますので、ご了承ください。

目次

提言

室内空気汚染研究の重要性

国立医薬品食品衛生研究所 室長 松村 年郎 様

TALK ABOUT 21-分子吸着による固体表面ナノ構造解析-

分子吸着による固体表面ナノ構造解析

千葉大学理学部教授 金子 克美 様

SCAS FRONTIER REPORT -分析技術最前線-

表面分析によるCu-CMP工程の評価

  • Cu-CMP工程
  • 測定方法
  • 防錆剤の評価事例
三木 武
西 亜紀子

SCAS FRONTIER REPORTⅡ -分析技術最前線-

粉体物性

  • 比表面積・細孔分布
  • 吸着特性
  • 触媒の酸性・塩基性
  • 粉体の付着性
近石 一弘
山口 拓哉

SCAS NOW 新分析技術新·分析装置紹介

EMPA、SEM等を用いた歴史的建造物の評価

杉田 恵三子

主な投稿論文・口頭発表等

  • ISO/IEC ガイド25の認定取得について
  • 紙メディアのインク受容層・印刷適性の評価技術
  • 新世紀のカラーコントロール
  • 変容する研究開発体制と分析業務の役割 -分析機能のアウトソーシングの現状と将来-
  • Evaluation of outgassing compounds from cleanroom construction materials
  • 部材からのアウトガスを徹底追及 -正確な評価はダメージ回避に必須-
  • Inductively coupled plasma mass spectrometric determination of ultra-trace elements in electronic-grade water and chemicals using dulcitol
  • クリーンルームにおける分子汚染に関する空気清浄度の表記方法と測定方法指針(案)JACA No.35について
  • 室内空気中のフタル酸エステル類の評価方法の検討
  • ペンタフルオロベンジルヒドロキシルアミン (PFBOA)
  • カートリッジ捕集-HPLC法を用いた室内空気中のアルデヒド類の測定法の検討-
  • クリーンルーム空気の清浄度の管理
  • ISO/TC209/WG5 AMCs
  • Table 80 defect prevention and elimination technology requirement中のAMCsについて
  • ウェーハ表面の微量化学汚染の測定・分析技術 -有機物汚染を中心に-
  • Ion chromatographic determination of ionic species on silicon wafer following surface extraction
  • 土壌・地下水汚染とその調査技術
  • クリーンルーム空気中の化学汚染物質の高感度分析に関する研究
  • 空気清浄とコンタミネーションコントロールの当面の課題、今後の展望
  • 室内空気中のホルムアルデヒドのサンプリング用新規捕集チューブの開発と性能評価
  • ウェーハ暴露法と実験用FFUによるケミカルフィルタの評価
  • クリーンルーム空気中の酸性および塩基性物質のシリコンウェーハ表面への付着挙動
  • ユーザーのための実用SIMS講座
  • インクジェット記録メディアを中心としたインク受容層・印刷適性の評価技術
  • 新規アルデヒドサンプラーによる室内空気中ホルムアルデヒド定量
  • 室内空気中のTVOC濃度評価法

TOPICS

  • ダイオキシン測定体制の増強
  • 全自動溶出試験システムを導入しました
  • 医薬品機構による「GLP適合性調査」で「評価A」継続
  • シンガポール認定協会(SAC)からSINGLAS認定取得

技術ウオッチャー

大気汚染物質PM2.5

蛭子 聡

随筆

ブラックボックス

山田 秀昭

編集後記

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