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電子機器・材料・デバイス

タイトル 整理番号
改訂RoHS 指令対象全10 物質の定量分析 NEW TN322
固体材料の高感度α線測定 NEW TN026
誘導結合プラズマ質量分析法による超微量元素分析 NEW TN051
黒鉛中微量元素の定量 TN027
微小領域の組成・構造の可視化 ~顕微ラマン分光法によるイメージング分析~ TN485
各種材料設計のための高感度TMAによる線膨張率の精密測定 TN484
ICP-AESによる金属元素定量分析 TN023
Liイオン二次電池評価(SPMによる電極内導電パス評価法) TN472
高感度燃焼法によるハロゲン・硫黄の超低濃度(ppbレベル)評価 TN470
Liイオン二次電池 内部ガスのオンライン分析 TN469
木質バイオマスの構造解析 TN459
冷却FIB法を用いた有機半導体材料の結晶性評価 TN452
大気圧イオン化質量分析計を用いた加熱脱離ガス分析(TDS-API-MS) TN448
Liイオン二次電池 (電解液反応生成物の空間分布) TN441
Liイオン二次電池 (正極活物質の劣化構造評価) TN440
圧縮空気の清浄度評価(JIS B 8392対応) TN437
Li イオン二次電池 (セパレータの細孔構造評価) TN433
クライオ(冷却)Arイオンミリンク゛法によるセパレータ断面のSEM観察 TN432
密閉空間内のガス分析 TN425
Liイオン電池 (電極反応分布のin situ断面観察)
—Ⅲ. 安全性向上へ向けたLiデンドライト発生過程の解析—
TN424
Liイオン二次電池 (電極反応分布のin situ断面観察)
—Ⅱ. 電極内Liイオン拡散の直接観察—
TN423
Liイオン二次電池 (電極反応分布のin situ断面観察)
—Ⅰ. 充放電による電極色変化のリアルタイム観察—
TN422
Liイオン二次電池(EPMAによるCo系正極バインダーの分布状態観察) TN418
差圧法による水蒸気透過度測定 TN417
同時角度分解光電子分光分析法(PAR-XPS) TN414
同時角度分解光電子分光分析法による薄膜の評価 TN413
φ450mmシリコンウェーハ表面の金属不純物分析 TN410
電子顕微鏡による有機半導体の積層構造評価 TN409
バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池の電子顕微鏡観察 TN403
放熱材料の熱伝導率測定 TN373
高分子材料の光、酸化、熱劣化評価 ~UV-Py-GC/MS~ TN349
シリコン系太陽電池材料中の金属不純物分析 TN348
太陽電池用シリコン最表面の微量成分分析 TN347
太陽電池用封止樹脂の劣化評価 TN346
薄膜シリコン系太陽電池セルの評価 TN345
TOF-SIMS による3次元分析 TN339
シリコンウェーハ局所部位中の金属不純物分析 TN335
石英ガラス部材中の金属不純物分析法 TN334
水平型基板検査装置を用いたウェーハエッジ・ベベル部の分析 TN333
GC-TOFMSを用いた液晶の構造解析 TN331
表面実装部品の半田継手せん断強度試験方法 TN330
冷熱衝撃試験 TN317
燃料電池用・炭化水素系高分子電解質膜の劣化解析 TN311
CP加工-FE-EPMAによる燃料電池用MEA断面の観察 TN310
X線マイクロCTによる燃料電池用MEAの層構造観察 TN309
燃料電池の分析法概要 TN308
収差補正電子顕微鏡を用いた高分解能観察 TN306
収差補正電子顕微鏡を用いた材料評価 TN304
Liイオン二次電池(ICP-AESおよびICP-MSによる負極合剤の分析) TN301
Li イオン二次電池(X線回折法(XRD)による正極活物質の構造解析) TN295
Li イオン二次電池(CP加工-FE-EPMAによる電極断面の観察) TN294
Li イオン二次電池(CP加工-FE-SEMによる電極断面の観察) TN293
Li イオン二次電池(X線マイクロCTによる非破壊観察) TN292
Li イオン二次電池(分析法概要) TN291
5軸ステージを活用したTOF-SIMS分析 TN289
TOF-SIMSによる広領域マッピング TN288
FIB-AESによるLSIチップの断面分析 TN287
オージェ電子分光法 TN284
EPMAによる微小領域の化学状態分析 TN253
高分解能誘導結合プラズマ質量分析法によるシリコンウェーハ表層酸化膜中のりん分析 TN192
HDD関連材料の汚染評価技術 TN188
非Si系薄膜中の金属不純物分析 TN187
SIMSによる低ドーズ量イオン注入の高精度評価 TN186
極薄酸窒化ゲート絶縁膜の評価 TN184
四重極型2次イオン質量分析装置の紹介 TN183
Backside SIMSの技術紹介 TN180
シリコンウェーハ表面への酸/塩基成分の付着挙動 TN177
シリコンウェーハ表面の酸/塩基不純物分析 TN176
TOF-SIMSによるCu-CMP後洗浄したウェーハ表面評価 TN165
XPSによるCu-CMP後洗浄したウェーハ表面評価 TN148
半導体材料のアウトガス分析 TN095
昇温脱離ガス分析法の応用 TN094
液晶ディスプレイ [ マイクロマニピュレータによる異物の解析] TN075
液晶ディスプレイ(XPSによる配向膜の分析) TN073
液晶ディスプレイ劣化解析(TOF-SIMS法による配向膜の解析) TN072
液晶組成物の構造解析 TN070
グロー放電質量分析法(GD-MS) TN061
飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS) TN060
原子間力顕微鏡(AFM)のご紹介 TN053
高純度石英中の不純物の定量分析 TN050
BPSGおよびPSG膜の化学分析 TN043
シリコンウェーハ表層の金属不純物分析 TN042
XPSによる酸化膜厚の測定 TN033
ポリイミド膜ウェーハのC・H・N元素分析 TN032
顕微FT-IRによるウェーハ上付着物の分析 TN028

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