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「Photomask Japan 2021 第27回ホトマスク技術展示会」に出展します

平素は格別のお引き立てを賜り厚くお礼申しあげます。

住化分析センターは、2021年4月20日(火)~4月21日(水)の2日間、「Photomask Japan 2021 第27回ホトマスク技術展示会」に出展いたします。本会は半導体用マスク関連技術の国際学会「Photomask Japan 2021第27回国際ホトマスクシンポジウム」に併設されるオンライン展示会となります。

先端デバイスの微細化においてEUVリソグラフィーは最もキーとなる製造技術であるとされますが、マスク関連技術は未だ解決すべき課題も少なくありません。
当社は国内最大規模の総合分析会社として半導体製造環境やプロセス材料の清浄度評価、各種部材からの溶出・発生成分解析、製品に発生する欠陥解析等の観点から皆様をサポートいたします。
本展示会で当社はEUVリソグラフィーの特徴でもある真空環境下において発生するガス評価やマスク・ペリクル汚染評価を始め、半導体製造・露光プロセス各工程に有用な技術をご提案・ご紹介いたします。

みなさまのご来場を心よりお待ちしております。

※昨今の事情を鑑みまして、WEBオンライン上のみの開催となります。
ご出張制限のある方、長時間オフィスを離れられない方等も御覧頂けます。

  展示会名  Photomask Japan 2021 第27回ホトマスク技術展示会
  開催日時

2021年4月20日(火)~ 2021年4月21日(水)

9:00 1800

  ご参加方法 下記URLからご参加ください。
※外部のウェブサイトに移動します。
https://www.photomask-japan.org/ex_outline_j.html
  参加料金 無料
※同時開催シンポジウム参加は別途登録(有料)が必要です。
 詳細は展示会公式サイトからご確認ください。
 

お問い合わせ先

住化分析センター マテリアル事業部 展示会窓口

TEL
03-5689-1214
E-Mail
H_mateevent@scas.co.jp