ガラス・石英の分析評価

石英ガラスは一般のガラスに比べ、高い純度と物理的な安定性を持っており、半導体製造装置の容器、管などの治具類、理化学用品などに広く利用されています。合成石英ガラスの金属不純物総量は1ppm以下であり、不純物量が分析の検出限界に近いため、正確な分析には専門的な技術を必要とします。
弊社では原材料、製品、コート品など様々な形態のガラス・石英材料に対し、分析サービスを提供します。

測定対象

原材料、製品、コート品など

応用例

分析対象分析項目手法・測定装置
ガラス・石英原料 組成分析 ICP-MS、ICP-AES、AAS、XRF、水蒸気蒸留/IC
不純物分析 HR-ICP-MS、ICP-MS、ICP-AES、AAS、XRF、ESR、水蒸気蒸留/IC
構造解析 固体NMR
粒度分布 レーザー回折法、重力/遠心沈降法、電気抵抗法
粉体特性 流動性、噴流性
比表面積 窒素吸着法、水銀圧入法、ブレーン空気透過法
溶解性試験 溶解性試験
ガラス・石英製品 組成分析 ICP-MS、ICP-AES、AAS、XRF、水蒸気蒸留/IC
不純物分析 HR-ICP-MS、ICP-MS、ICP-AES、AAS、XRF、ESR、水蒸気蒸留/IC、SIMS
光学特性評価 分光透過/反射率、赤外分光透過/反射率、ヘイズ率
熱特性評価 粘性測定、TMA、TG-DTA、熱伝導率、熱収縮率
電気特性評価 イオン伝導度、表面抵抗、体積抵抗、絶縁抵抗、誘電特性、Liイオン伝導率測定
一般物性評価 歪み測定、比重測定
劣化・耐候性試験 耐候性試験、環境試験、化学的耐久試験、溶出試験
形態観察/分析 OM、SEM、SEM-EDX、STEM、TEM、TEM-EDX、TEM-EELSS、AFM
表面分析 TOF-SIMS、XPS、PAR-XPS、AFM、EPMA
状態分析 Raman、ESR
異物・気泡 Raman、FIB-SEM、FIB-TEM、EPMA、XRD
低レベルα線測定 低レベルα線測定装置
加熱発生ガス分析 API-MS、TG-MS、TPD、GC-MS

住化分析センターでは、その他電子分野、工業材料関係の多くのメニュー体制を整えています。
どうぞお気軽にお問い合わせください。

ご依頼、分析の流れ

御一報ください(WEB/TEL/MAIL)→お伺いいたします(MEET/TEL/MAIL)→見積書提出→サンプル受領[受入検査/外観観察]→前処理[測定可能な状態への試料加工など]→観察・定性・定量[各種測定]→解析→速報→報告

分析技術事例(Technical News)

タイトル 整理番号
同時角度分解光電子分光分析法(PAR-XPS)TN414
TOF-SIMSによるガラス表面の広領域マッピングTN407
TOF-SIMSによるフッ素系表面改質剤の定性分析TN406
TOF-SIMSによるウォーターマークの定性分析TN405
石英ガラス部材中の金属不純物分析法TN334
固体NMRによるシリカの化合結合状態解析TN319
X線CT観察による試料内部の空孔率及びフィラー等の含有率測定TN318
収差補正電子顕微鏡を用いた高分解能観察TN306
収差補正電子顕微鏡を用いた材料評価TN304
小角X線散乱によるナノスケール構造解析TN290
水蒸気吸着等温線による表面特性の評価TN249
気体容積法による粒子密度の測定TN164
粒径分布測定[重力/遠心沈降法]TN162
粒径分布測定[レーザー回折/光散乱]TN161
比表面積測定[ブレーン空気透過法]TN154
TOF-SIMSによるシリカ粒子断面マッピングTN153
粉体特性の数的評価法TN134
水銀圧入法を用いた細孔分布測定TN133
窒素ガス吸着法による比表面積、細孔分布測定TN132
比表面積測定(BET1点法)TN131
粒径分布測定[電気抵抗/コールターカウンター式]TN130
高純度石英中の不純物の定量分析TN050
半導体構成材料のアルファ線の測定TN026
ICP-AESによる微量分析TN023

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